微细加工技术－论文列表


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论文列表 >>> 微细加工技术

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1	用ICB法制备C_（60）薄膜	1994	03
2	新金刚石科学技术	1994	02
3	“富勒碳”译名简介	1994	03
4	C_（60）薄膜的制备	1994	03
5	X射线聚束透镜原理及其应用	1994	04
6	动态离子束混合技术制备固体薄膜	1994	03
7	金刚石薄膜的人工合成及其结合力的评估	1994	02
8	碳纳米管一直径1nm的新型碳纤维	1994	03
9	在有机玻璃基底上制备ITO透明导电膜	1996	02
10	新型超硬材料氮化碳薄膜研究的进展和应用前景	1996	03
11	微马达转子电镀导磁层的研究	1996	03
12	C_（60）薄层作为CVD金刚石成核区的研究	1996	02
13	C_（60）发光器件与异质结	1996	01
14	采用X射线测量硬质薄膜宏观内应力的拉伸法	1996	03
15	纯净化真空电弧沉积非晶硅薄膜	1996	01
16	等离子体提纯硅粉的实验研究	1996	01
17	电解抛光法生产超细钨丝	1996	03
18	基底几何尺寸对金刚石沉积过程的影响	1996	02
19	金刚石薄膜的低温合成技术	1996	02
20	离子注入R－PVC材料静电性能研究	1996	03
21	脉冲激光加工硅钢片的非傅里叶导热分析	1996	03
22	偏压预处理在CVD金刚石成核中的作用	1996	04
23	射频等离子体气相沉积a－C：N薄膜	1996	03
24	双束共蒸发制备Fe－Cu包埋团簇	1996	01
25	碳化硅加热元件的电性能和使用	1996	02
26	阳极真空电弧镀膜技术	1997	02
27	硬质合金YG8衬底直接沉积金刚石薄膜的探讨	1997	02
28	Ag-SiO_2纳米复合薄膜微结构研究	1997	04
29	X射线Bragg-Fresnel元件中多层膜的稳定性…	1997	01
30	VAD等离子体中宏观粒子的悬浮电位	1997	02
31	大面积非晶硅光导薄膜的研制	1997	01
32	反应溅射制备TiN薄膜的靶动力学研究	1997	01
33	反应溅射制备TiN薄膜的靶中毒模型研究	1997	01
34	反应溅射制备TiN薄膜的生长速率模型研究	1997	01
35	灯丝温度对生长金刚石薄膜的影响	1997	01
36	核化密度对硅上生长异质外延金刚石膜的影响	1997	04
37	利用STM进行纳米加工的研究	1997	04
38	金刚石薄膜涂层刀具切削性能研究	1997	03
39	金刚石薄膜衬底表面预处理技术	1997	03
40	碳氢氟体系低压生长金刚石的相图	1997	04
41	碳氮膜的研究进展	1997	03
42	用Ti(OC_2H_5)_4制备Ti(CN)涂层研究	1998	01
43	用CPLD设计双频激光干涉仪比较器电路	1998	03
44	沉积温度对Ti-B-N复合薄膜微结构及力学性能的影响	1998	04
45	电子束蒸发WO_3气敏薄膜	1998	01
46	二乙胺聚合膜特性研究	1998	03
47	负偏压对M_0衬底上生长金刚石膜的影响	1998	04
48	甲烷-氢气体系金刚石生长的热力学相图分析	1998	01
49	金刚石薄膜衬底表面不同预处理对薄膜表面形貌的影响	1998	02
50	金刚石高成核选择比图形化技术	1998	04
51	冷等离子体对硅粉薄层纯化的动力学分析	1998	01
52	热丝CVD法制备C-N薄膜的结构分析	1998	03
53	自润滑微机械系统研究	1999	02
54	用过滤式电弧沉积系统制备类金刚石薄膜	1999	01
55	有机铜薄膜的等离子体聚合研究	1999	04
56	GaN薄膜技术的几点突破	1999	01
57	Ni-Co合金包覆碳纳米管的研究	1999	02
58	大面积平坦金刚石薄膜的制备和图形化	1999	04
59	电沉积法制备彩色滤光膜	1999	02
60	镍钛合金形状记忆薄膜的化学刻蚀	1999	03

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